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飛納電鏡邀您相聚 SEMICON 2020

 更新時間:2020-06-24 點擊量:2227

 

會議時間:2020 年 6 月 27 日 - 29 日
會議地點:上海新博覽中心

 

飛納電鏡展位號:E3369

 

飛納臺式掃描電鏡能譜一體機 Phenom ProX

隨著半導體科技的進步,電子器件早已融入到人類生活的方方面面,但隨著生活質量和生活方式不斷變化,人們對于電子器件的使用要求以及功能也提出了新的要求,使得更嚴格的品質管控勢在必行。

 

掃描電鏡及 EDS 能譜儀是半導體以及封裝失效分析的重要工具。在封裝缺陷和失效分析中,可以通過 SEM-EDS 對焊接或互聯界面情況進行高分辨表征,提供更高放大倍率的金屬間化合物界面、裂縫和相關缺陷的微區成像以及元素分析。

 

  

封裝缺陷

 

 

優中心樣品杯——多角度自由傾斜旋轉

  

多角度檢查焊接情況

 

IC 去層分析 (Delayer)

 

無論對于工藝設計,還是生產控制或者缺陷分析。去層分析是一種重要手段。

 

交互使用各種不同處理方式(離子蝕刻 / 化學藥液蝕刻 / 機械研磨),使芯片本身多層結構(Passivation, Metal, IDL)可一層一層去除,也就是芯片去層(Delayer)。通過層次去除(Delayer)可逐層檢視是否有缺陷,并可提供后續實驗,清楚呈現出每一層電路布線結構。

 

  

傳真:

郵箱:info@phenom-china.com

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